Uporabljamo piškotke, da naredimo vašo izkušnjo boljšo. V skladu z novo direktivo o e-zasebnosti, vas moramo vprašati za soglasje o nastavitvi piškotkov. Izvedite več.
MZ SKIN Radiance & Renewal Refining Maska 100 mL
MZ SKIN Radiance & Renewal Refining Maska 100 mL
- 8,5 % AHA kompleks za globok piling in spodbujanje celične obnove
- Pomaga odstraniti pigmentirane celice, kar ima za posledico čisto in svetlo polt
- Zmanjša videz drobnih linij in gub
- Očisti pore in zmanjša nepravilnosti
- Spodbuja sijaj in svetilnost
Kupite ta izdelek in pridobite 145 točk
Ta maska za obraz z globokim pilingom takoj osvetli utrujeno in dolgočasno kožo. 8,5-odstotni koncentrat kompleksa sadnih kislin spodbuja celično obnovo, zoži pore in pomaga odpraviti pigmentacijo, da osvetli in obnovi sijaj. Rezultat je gladka, poživljena in sijoča polt.
+ TROJNI AHA KOMPLEKS (MLEČNA KISLINA, AZELAIČNA KISLINA, LAKTOBIONSKA KISLINA)
Nežno lušči in čisti
+ ENCIM PAPAJA
Vidno posvetli in zoži pore
+ NASTURCIJ
Oksigenira in razstruplja kožo
+ GLIKOKINI
Podpira sintezo hialuronske kisline za dolgotrajno hidracijo"
UPORABA
Izdatno nanesite na čist obraz in dekolte ter pustite delovati 15 minut. Temeljito sperite s toplo vodo. Za najboljše rezultate uporabite dvakrat na teden.
SESTAVINE
Voda (voda), laktobionska kislina, propilenglikol, glicerin, hidroliziran ekstrakt kvasa, amonijev akriloildimetiltaurat/VP kopolimer, mlečna kislina, natrijev laktat, azelainska kislina, fenoksietanol, sintetični fluorflogopit, navzkrižni polimer adipinske kisline/neopentil glikola, limonen, T-butil Al kohol , etilheksilglicerin, dinatrijev EDTA, izvleček cvetov/listov/stebla Tropaeolum Majus, olje lupine limone citrusa, cetil hidroksietilceluloza, parfum (dišava), olje mente piperite (poprove mete), papain, poliglukuronska kislina, citral, kalijev sorbat, natrijev benzoat, 1, 2-heksandiol, kaprilil glikol, karbomer, lecitin, algin, CI 77891 (titanov dioksid), kositrov oksid